Porównanie wybranych konwencjonalnych i niekonwencjonalnych metod cięcia krzemu

Comparsion selected conventional and unconventional methods of silicon cutting

Tomasz Stechnij, Stanisław Zaborski, Dariusz Poroś | 20-03-2015

Mechanik nr 04/2015 - Artykuły z XII Międzynarodowej Konferencji Electromachining 2015 zamieszczone na płycie CD

STRESZCZENIE: Artykuł jest przeglądowym opisem stosowanych przez autorów w badaniach własnych technik cięcia krzemu. Zwrócono uwagę na własne doświadczenia oraz opisano wady i zalety poszczególnych metod.

SŁOWA KLUCZOWE: cięcie krzemu, cięcie ściernicą, ciecie erozyjne.

ABSTRACT: The article is a review of techniques applied by the authors for cutting of silicon. It is noted on your own experience and describes defects advantages and disadvantages of each method.

KEYWORDS: silicon cutting, abrasive cutting, WEDM.

BIBLIOGRAFIA / BIBLIOGRAPHY:

Ashcroft N.W., Mermin N.D.: Fizyka ciała stałego. PWN, Warszawa 1986.
PN-1997/M-04250, Warstwa wierzchnia. Terminologia.
100 Poroś D.: Dobór elektrody drutowej do wycinania elektroerozyjnego materiałów trudno obrabialnych. Rozprawa doktorska, Politechnika Wrocławska, Wrocław 2007.
Wells A.B., Subrahmanyan P.K.: Machine for precision high-speed cutting of semiconduktor wafers. Electro Scientific Industries, Inc., Portland 2003.
Richerzhagen B.: The waterjet-guided laser in wafer cutting. Parc Scientifique A, Switzerland 2004.
Yoo W. S., Fukada T., Yokoyama I . , Kang K., Takahashi N.: Thermal Behavior of Large-Diameter Silicon Wafers during High-Temperature Rapid Thermal Processing in Single Wafer Furnace. The Japan Society of Applied Physics, Tokyo 2002.
Cosford L., Swift V.: Laser cutting of silicon wafers. Enabling Technology, 2008.
Kula P.: Inżynieria warstwy wierzchniej. Monografie, Łódź 2000.
Kaczmarek J.: Podstawy obróbki wiórowej, ściernej i erozyjnej. WNT, Warszawa 1970.
Ruszaj A., Gawlik J., Skoczypiec S.: Stan badań i kierunki rozwoju wybranych niekonwencjonalnych procesów wytwarzania. Inżynieria Maszyn – rok 14, zeszyt 1, Wydawnictwo NOT, Wrocław 2009.
Chojnacki J.: Elementy krystalografii chemicznej i fizycznej. PWN, Warszawa 1971.
Many A., Goldstein Y., Grover N.B.: Semiconductor surfaces. J. Wiley, New York 1965.